韓國(guó)設(shè)備商Sunic System日前推出了一款全新的基于精細(xì)金屬掩膜蒸鍍（evaporation-FMM）的AMOLED系統(tǒng)，其可實(shí)現(xiàn)高分辨率，Sunic表示其可實(shí)現(xiàn)2250 PPI。Sunic的新技術(shù)采用面源作為蒸鍍OLED材料，而非當(dāng)前采用的線源。如此高分辨率顯示屏對(duì)于VR應(yīng)用十分有價(jià)值。

    Sunic System日前宣布，其通過采用新型面源蒸鍍和100μm蔭罩成功實(shí)現(xiàn)了1.1μm陰影距離，而如此小的陰影距離可實(shí)現(xiàn)1000至1500 PPI分辨率。公司的下一步目標(biāo)是將陰影距離縮減至0.37μm，從而可實(shí)現(xiàn)2250 PPI和11K高分辨率移動(dòng)AMOLED屏。

    面源技術(shù)是將OLED發(fā)光材料沉積在金屬板上，反轉(zhuǎn)該金屬板后通過加熱來垂直地蒸發(fā)材料。這使得相當(dāng)薄且高分辨率的FMM成為可能，進(jìn)而可用于生產(chǎn)高分辨率OLED。

    這種新技術(shù)的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是可沉積高密度（200 PPI）大尺寸OLED。目前FMM自身的襯底尺寸有限，企業(yè)需要在OLED沉積前對(duì)襯底進(jìn)行切割。