應(yīng)用材料公司今天發(fā)布制造大尺寸、超高分辨率 (UHD) 液晶電視屏和 OLED 顯示屏的新技術(shù)設(shè)備，新技術(shù)設(shè)備能夠滿足消費(fèi)者對顯示屏性能、清晰度、色彩和亮度的更高要求。設(shè)備進(jìn)一步鞏固了應(yīng)用材料公司在金屬氧化物 (MO) 薄膜技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)地位，實(shí)現(xiàn)制造高分辨率顯示屏所需的更小、更快薄膜晶體管 (TFT)。通過精密材料工程和生產(chǎn)革新，這些 PVD 和 PECVD 設(shè)備為未來金屬氧化物薄膜顯示屏的批量生產(chǎn)提供了最優(yōu)化而具成本效益的解決方案。

    基于金屬氧化物的薄膜晶體管顯示技術(shù)能支持低功耗、高分辨率的智能手機(jī)、平板電腦以及OLED 電視。.未來的超高清（4K）電視也有望采用金屬氧化物薄膜晶體管顯示技術(shù)。應(yīng)用材料公司 PVD 和 PECVD 設(shè)備及工藝所提供的膜質(zhì)均勻性和微粒控制有助于客戶實(shí)現(xiàn)這一新型顯示屏技術(shù)，為大規(guī)模生產(chǎn)所需的高良品率提供保障。

    “我們新型 PVD 和 PECVD 設(shè)備使客戶能夠利用已經(jīng)驗(yàn)證的技術(shù)轉(zhuǎn)向金屬氧化物技術(shù)，加快顯示行業(yè)的發(fā)展進(jìn)程，”應(yīng)用材料公司高級副總裁、全球服務(wù)事業(yè)部與成長市場部總經(jīng)理阿里‧沙勒普爾 (Ali Salehpour) 說。 “我們與客戶緊密合作開發(fā)這些解決方案來克服其在均勻性、微粒控制和穩(wěn)定性上遇到的關(guān)鍵難題，解決運(yùn)用過程中的主要障礙，尤其是在OLED 產(chǎn)品方面。我們通過將這些解決方案擴(kuò)展至不同的玻璃基板尺寸，以支持我們客戶的各種產(chǎn)品策略，成就大尺寸電視或移動設(shè)備高效能顯示屏生產(chǎn)的多種技術(shù)發(fā)展。”

    應(yīng)用材料公司的 AKT-PiVot® DT PVD設(shè)備（55K 用于 2200mm x 2500mm 玻璃基板，25K 用于 1500mm x 1850mm 玻璃基板）擴(kuò)展了該公司專有的旋轉(zhuǎn)陰極陣列技術(shù)，能為金屬氧化物以及金屬連線和像素電極提供高度均勻、同質(zhì)、低瑕疵的成膜。通過 PiVot 形成的、均勻的 IGZO 膜能夠制造出對顯示屏質(zhì)量至關(guān)重要的高度穩(wěn)定性的薄膜晶體管，是生產(chǎn)小尺寸和大尺寸 OLED 金屬氧化物背板的關(guān)鍵。隨著薄膜晶體管越來越小，玻璃基板尺寸越來越大，均勻性和微粒對良品率的影響也大幅增加。與傳統(tǒng)的平面靶相比，AKT-PiVot® PVD設(shè)備具有的旋轉(zhuǎn)靶自我清潔與等離子搖擺控制機(jī)能，實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)品缺陷率的顯著降低與卓越的膜質(zhì)均勻性。為了有效實(shí)現(xiàn)高性價(jià)比，獨(dú)立的雙軌道設(shè)計(jì)以較小的占地面積實(shí)現(xiàn)了高產(chǎn)能。通過穩(wěn)固、無非均勻的 IGZO 薄膜，與均勻低缺陷率的金屬連線、像素電極以及新的集成式鈍化層 (AlOx)薄膜的結(jié)合，實(shí)現(xiàn)了前所未有的技術(shù)性能和靈活性。

    應(yīng)用材料公司的新型 AKT 55KS PECVD 設(shè)備為 2200mm x 2500mm 尺寸的玻璃基板帶來了領(lǐng)先于市場的精密 PECVD 技術(shù)。利用其新型優(yōu)質(zhì)的二氧化硅 (SiO2) 工藝，為金屬氧化物晶體管沉積電介質(zhì)界面，最大程度地減少氫氣雜質(zhì)，提高晶體管的長期穩(wěn)定性并優(yōu)化顯示屏性能。通過持續(xù)實(shí)現(xiàn)高良品率所需的均勻性和微粒控制，AKT-55KS PECVD 設(shè)備為制造優(yōu)質(zhì)金屬氧化物薄膜晶體管顯示屏提供了快速而易于實(shí)施的技術(shù)方案。